从CMOS到触发器

Posted 2020-09-01 IC_learner

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　　作为一个微电子专业的IC learner，这个学期也有一门课：《微电子器件》，今天我就来聊聊基本的器件：CMOS器件及其电路。在后面会聊聊锁存器和触发器。

　　今天的主要内容如下所示：

　　　　·MOS晶体管结构与工作原理简述

　　　　·CMOS单元电路与版图

　　　　·CMOS门电路

　　　　·CMOS的功耗表示

 

老实说，CMOS比较偏微电子器件，微电子器件还真难...这里我就说一些做数字设计或许要了解的东西吧（以后要是有必要，会补充）。

 

1、MOS晶体管结构与工作原理简述

　　我们或多或少知道，晶体管在数字电路中的主要作用就是一个电子开关，通过电压或者电流，控制这个“开关”开还是关。晶体管大概有两种分类：一种是双极性晶体管（BJT，bipolar  junction  transistor），另外一种是金属-氧化物-半导体场效应晶体管（MOSFET或者MOS，metal-oxide-semiconductor  field effect transistor）。我们这里主要来聊聊MOS了，那个BJT在现在数字IC设计中已经不是主流工艺了。

　　①MOS晶体管分为PMOS和NMOS，是哪一类MOS取决于衬底和掺杂浓度。至于是怎么形成的，这太复杂了，简单的三言两语说不清楚，这里干脆就不说了，我们直接来看他们的截面图和简单地讲解它们的工作原理好了（以下均以NMOS为例）。

NMOS晶体管的横截面结构如下所示：

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

 

　　最底层是硅晶元圆衬底（substrate）(Body Si那里),最顶上是导电的栅极（gate），中间是二氧化硅构成的绝缘层。在过去栅极是由金属构成的，因此叫做金属-氧化物-半导体，现在的栅极使用的是多晶硅（poly）。MOS结构中，金属(多晶硅)与半导体衬底之间的二氧化硅会形成一个电容。

　　好吧，上面那一段看不懂也没关系，也不重要，需要你记住的是，上述的NMOS晶体管中，衬底是P型的，衬底上有两个n型的掺杂区域分别称为源极（Source）和漏极（Drain）（其实你把左边定义为漏而右边定义为源也没有问题，因为这个时候这个器件是对称的，在连接电源和地之后，S和D才真正确定）,中间最上面的称为栅极（Gate），这就是NMOS的三个电极了（实际上的MOS是一个4端器件，它的衬底也是一个端）。下面来说一下他们怎么工作。

　　前面我们说了，晶体管的作用就是大致就是一个开关，在电流或者电压的控制下进行开和关，对于NMOS晶体管，我们现在给它加上电压，让它开始工作：

                

 

如上左图所示，加上电压后，所谓的源极，就相当于电子的源头；所谓的漏极，就相当于漏出电子的开口；而中间的栅极，就像控制开关一样：一方面通过控制在栅极施加的高电平电压，使源漏之间出现沟道，电子通过沟道从源极流向漏极，电流的方向也就是从漏到源了，从而进行导电，也就是“开关”打开的的时候（由于是形成的N沟道，也就是电子导电，因此成为N型CMOS）。另一方面再通过控制在栅极施加低电平电压，让沟道关断，因此就源漏之间就关断了，也就是“开关”关断的时候。上面就是NMOS的结构和工作流程了。（PMOS的工作流程恰好相反：通过控制在栅极施加的低电平电压，进行打开，而通过控制在栅极施加高电平电压，让沟道关断。）

注意：栅极的电压达到一定数值时，沟道才会形成，沟道形成时的电压称为阈值电压（Vth）。

　　②下面我们来看一下I-V特性曲线（注意这两个称呼，一个是转移特性曲线，一个是输出特性曲线）：

　　　　　　　　　　　　　　 

 

　　　在前面我们知道，对于NMOS，源极(S)是接地的，漏极（D）是接数字电源的，在工作的时候，一般Vds是不变的，然后根据栅极（G）上的电压决定沟道是否导通。工作的时候，Vg的值（也就是输入信号的电压值）是一个定值，要么高电平（可能有波动），要么是低电平，从这里我们也知道NMOS工作的时候，是有电流从电源（VDD）流到地（GND）的（也就是从D流到S的），在电源电压不变的时候，这个电流随着栅极上的电压增大而增大。

　　　　③接着我们看看MOS的内部自个形成的电容（寄生电容），如下图所示：

 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

　　　主要分为：

　　　　（1）栅和沟道之间的氧化层电容C1；　

　　　　（2）衬底和沟道之间的耗尽层电容C2；　

　　　　（3）多晶硅栅与源和漏的交叠而产生的电容C3 和C4；　

　　　　（4）源/漏区与衬底之间的结电容C5与C6。

　　好吧，其实这些个MOS这个电容我们看看就好了，毕竟我们不是做器件的。

 

2、CMOS单元电路与版图

　　在现在工艺中，我们主要使用的是成为CMOS（互补型半导体，Complementary MOS）的工艺，这种工艺主要就是把PMOS和NMOS这两类晶体管构成一个单元，称为CMOS单元或者反相器单元，其结构把PMOS和NMOS同时集成在一个晶元上然后栅极相连，漏极相连，下面是它的结构图（关于电路符号和功能将在后面讲）：

 　　　　　　　　　　　　　　

 

　　在上图中，左边是NMOS，右边是PMOS。A是共连栅极输入，Y是共连漏极输出，VDD连接PMOS的源极，GND连接GND。关于CMOS工艺中阱的问题可以进一步查看该链接：http://www.doc88.com/p-065160919221.html

下面电路符号图了，上面的那个CMOS反相器对于的电路符号图如下所示：

 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

 

　　现在我们就来分析一下这个CMOS反相器的工作原理来说明这个为什么CMOS工艺是主流吧：

　　A当输入信号A=1时，PMOS关断，NMOS打开，输出信号Y的电压相当于GND的电压，也就是Y=0；在这个过程中，从VDD到GND这一个供电回路都没有导通，因此理论不存在电流从VDD流到GND，因此功耗为0.

　　B当输入信号A=0时，PMOS打开，而NMOS关闭，输出信号Y=VDD=1，但是从VDD到GND这一个供电回路也没有导通，因此理论上也不存在电流从VDD流到GND，因此功耗也为0。

　　C因此可以得出，理论上反相器进行传输信号时，没有功耗（好吧，我们应该这样说：功耗极其地低），这就是为什么使用CMOS的工艺的原因。

　　下面我们来看一下CMOS单元的版图：

 　　　　　　　　　　　　　　　　　　

　　左边是CMOS的电路符号，右边是版图（这个版图先凑合着看），下面来说一下这个版图吧：

　　这是一个是使用了p阱CMOS工艺的反相器版图。首先是从下往上看，金属（蓝色）连接到数字地（Vss）上面；白色背景红色虚线边框的P阱区域是为说明，下面的绿色掺杂区域形成的是NMOS，上面绿色掺杂区域形成的是PMOS；

　　然后   绿色的掺杂区域  分布在  红色的多晶硅附近，然后多晶硅连在一起（也就是把PMOS和NMOS的栅极连在一起），然后通过金属引出（那个X表示通孔）为输入Vi。

　　然后下面的NMOS的源极通过通孔跟金属连在一起（绿色跟蓝色通过X连在一起）；NMOS和PMOS的漏极通过通孔连接到同一块金属上面然后当做输出。

　　PMOS的源极通过通孔连接到金属然后连接到了数字电源上。

　　上面的右图中，也展示出左图中的宽长比：在右边的版图中，NMOS的沟道是1/1，即沟道宽度与沟道长度的比例是1:1，而PMOS的宽长比是3:1（我们可以看栅与有源掺杂区的重叠部分来体会器件的宽长比，其中栅的宽度大致为沟道的长度）。在手画版图时，要注意是先后的区别，也就是哪一个区域被哪一个区域覆盖，简而言之就是：基本衬底在最下面，一次往上是阱衬底，然后是有源掺杂区，接着是栅，最后是金属和通孔。

 

　　更加抽象（好看一点）的图如下所示（N阱CMOS工艺）：

　　　　　　　　　　　　　　　　  

 

　　版图的基本知识就到这好了，更详细的知识还是查看更专业的书籍吧。

 

3、CMOS门电路

　　①CMOS非门：上面的一个CMOS单元的功能就是非门的功能了，因此CMOS非门也就是这个CMOS的单元，也称为反相器。其电路结构就是反相器的电路结构。

　　②（二输入）CMOS与非门（NAND）：

直接上图吧，CMOS与非门的电路符号结构如下所示：

 　　　　　　　　　　　　　　

 

　　　　　　　　　　　　　　　　　　 

　　　　（PMOS的电路符号栅极处本来应该有个小圈圈，表示低电平有效的）

③（二输入）CMOS或非门(NOR)的电路符号和工作原理如下所示：

　　　　　　　　　　　　　　   

　　　　　　（PMOS的电路符号栅极处本来应该有个小圈圈，表示低电平有效的）

 

　　数字逻辑电路都可以由上面的三种电路化简构成，也就是说一个电路可以由NAND或者NOR电路构成，我们来看看他们的特点来推导数字CMOS电路的特点。

容易知道（反正我们就当做结论好了）：

　　反相逻辑门的通用结构如下所示：

　　　　　　　　　　　　　　     

　　　　此外我们也注意到，使用到与功能的时候，NMOS网络是串联的；使用或功能时，NMOS网络是并联的。因此可以这么记忆：要NOMS都一起，才能一起（与），只要NMOS其中一个就可以（或），与还是或，可以根据NMOS的串并结构判断。

　　然后设计多少个输入的NXXX门，就把多少个NMOS串/并联起来，然后PMOS就是并/串就可以了。

 

4、CMOS的功耗表示

　　功耗是单位时间内消耗的能量，在数字系统中的功耗主要包括静态功耗和动态功耗，我们将从CMOS电路角度聊聊静态功耗和动态功耗。

　　CMOS的静态功耗：当CMOS不翻转/不工作时的功耗。在CMOS都不工作时，也就是晶体管都处于截止状态的时候，从VDD到GND并不是完全没有电流流过的，还是有些微电流从电源流到地，这个静态电流Idd称为电源和地之间的漏电流，跟器件有关（至于漏电流是怎么引起的，这里就不再阐述了）。初中的时候，我们就学过P=UI，因此静态功耗就可以这样表示 :

　　　　　　　　　　　　　　　　　　Ps = Idd*Vdd.

　　CMOS的动态功耗是信号在0和1变化之间，电容充放电所消耗的功耗。我们知道，不仅仅CMOS器件有寄生电容，导线间也有电容。将电容C充电到电压Vdd所需要的能量CVdd^2。如果电容每秒变换f次（也就是电容的切换频率为f，在一秒内，电容充电f/2次，放电f/2次），由于放电不需要从电源那里获取功耗，因此动态功耗就可以这样表示：

　　　　　　　　Pd = 1/2* C*Vdd^2*f  即：  

 

 

PS：上面主要是列举了一些主要的功耗，比如动态功耗中除了翻转时电容消耗功耗外，还有在栅极信号翻转的时候PMOS和NMOS同时导通引起的短路功耗。

这里不一一陈述，主要是考虑上面的那两种功耗。也许后面记载低功耗设计的时候会详细说明一下。

 

本文中的图片主要来自Google 网络，部分来自：《数字IC系统设计》