中国企业公布EUV光刻机专利对ASML影响有限，类似石墨烯专利

Posted 2022-12-13 柏颖漫谈

国内有科技企业公布了EUV光刻机专利，热闹了几天，然而仔细想来，这专利恐怕对于中国光刻机产业影响有限，离量产依然很远，就如此前的石墨烯专利一样。

EUV光刻机可谓是科技行业的皇冠，它集中了全球诸多科技的精华，ASML的EUV光刻机需要大约10万个零部件，由德国、美国、日本等诸多国家的大约5000家企业供应相关的元件，可见它的高度复杂性。

正是由于EUV光刻机的高度复杂性，至今为止仅有ASML能生产出EUV光刻机，其他国家并无法生产出EUV光刻机，而且即使是诸多供应链企业提供了高度精密的元件，ASML同样需要投入大量技术人员研发相关的技术并对这些元件进行整合才能组装出一台光刻机。

对于中国来说，中国如今正在力推28nm、14nm光刻机的量产，这些都的DUV光刻机，与EUV光刻机可还隔着一代，在先进的DUV光刻机尚在努力攻克的情况下，推进EUV光刻机技术并不容易。

事实上光刻机本身就是一条相当庞大的产业链，需要双工作台、物镜系统、光源系统等诸多设备，这绝不是仅仅靠一两家供应商就能搞定的，至于专利方面，ASML仅是在中国就已申请了近5000份专利，其中已有2000份专利获得授权，它在全球市场更是拥有近万专利。

如此就可以看出，中国企业提出的一两项专利其实对于光刻机产业影响有限，它需要整个供应链共同努力才能实现光刻机的量产，而一家非光刻机产业链的企业提出的光刻机专利恐怕影响就更为有限了。

其实类似的现象在石墨烯技术上也有所体现，石墨烯技术被认为是最尖端的技术之一，由于它自身的特性，石墨烯技术用于电池上可以提升电池容量和充电速度，用于芯片上则可以大幅提升性能，因此全球都在积极研发石墨烯技术。

中国企业早在数年前也申请了石墨烯专利，当时国内也曾大事宣传，然而数年过去，真正的石墨烯电池、石墨烯芯片仍然未见踪影，倒是石墨烯散热片、石墨烯底裤等独特的产品出现了，让这些企业借此出名，然而这对于石墨烯技术的发展并不会有太大的作用。

对于光刻机行业也是类似，当前中国最应该也有希望的是先搞定14nm、28nm光刻机，将这些先进工艺实现完全国产化，夯实光刻机产业链，然后再往更先进的EUV光刻机前进，要不然没有完善的光刻机产业链，即使有EUV光刻机专利也无法生产出EUV光刻机产品。

当然对于中国芯片产业链来说，能率先预研先进技术还是有好处的，能储备相关的技术，但是过于高估这些专利恐怕就不太合适了，一台EUV光刻机涉及的专利可是近万件，一两件专利就说突破似乎有点过了吧？