原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）微电子制造铜金属化的研究进展
Posted 吴建明
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原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）微电子制造铜金属化的研究进展
Atomic Layer Deposition (ALD) and
Chemical Vapor Deposition (CVD)
of Copper-based Metallization
for Microelectronic Fabrication
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