Zeloof 自制芯片工艺
Posted ejinxian
tags:
篇首语:本文由小常识网(cha138.com)小编为大家整理,主要介绍了Zeloof 自制芯片工艺相关的知识,希望对你有一定的参考价值。
Sam Zeloof 自制出的Z2芯片。
Zeloof开始了集成电路的设计与制造研究,先从FET器件做起,然后在2018年高三器件做出了第一个第一个自制集成电路—Z1放大器。Z1 有 6 个晶体管,是开发所有工艺和设备的绝佳测试芯片
我设计Z1放大器是为了寻找一个简单的芯片来测试和调整我的工艺。在MagicVLSI中完成了4个掩模的PMOS工艺(有源/掺杂区、栅极氧化物、接触窗口和顶部金属)的布局。就避免离子污染而言,PMOS 比 NMOS 更具优势,这使其能够在车库中制造。掩模被设计成16:9的长宽比,便于投影光刻
在水蒸气环境中(湿式氧化),现场的氧化物被热增长到5000-8000Å的厚度。人们可以考虑在此步骤中把去离子水与百分之几的盐酸混合。氯化物原子有助于获取和固定离子污染物,据说还能使生长率提高5-7%。再加上我正在制造PMOS器件而不是NMOS,这些都给污染控制带来了巨大的优势,并允许在车库里制造出性能良好的器件
参考:Sam Zeloof
以上是关于Zeloof 自制芯片工艺的主要内容,如果未能解决你的问题,请参考以下文章