如何使用模板缓冲区仅屏蔽位于另一个对象后面的对象像素？

Posted 2023-02-22

【中文标题】如何使用模板缓冲区仅屏蔽位于另一个对象后面的对象像素？

【英文标题】：How do I use the stencil buffer to mask only the object pixels that are BEHIND another object?

【发布时间】：2015-07-04 07:31:24

【问题描述】：

我有两个对象，我们称它们为 Mask 和 Masked。我想使用 Mask 的形状在 Masked 中“切一个洞”。到目前为止，我已经能够设置一个非常简单的测试，它呈现如下所示： http://i.imgur.com/CjkUfvW.png

很遗憾，这个遮罩没有考虑到遮罩的 Z 深度。

我希望看到的是这样的： http://i.imgur.com/LGPmr3f.png

为了澄清，Mask（球体）与 Masked（立方体）相交，但球体的完整形状被用作模板，而不仅仅是未被立方体遮挡的像素。

这是我的球体 Stencil 通行证：

    ColorMask 0
    ZWrite off
    Pass
        Stencil 
            Ref 1
            Comp always
            Pass replace
        

这是我的立方体 Stencil 通行证：

    Stencil 
        Ref 1
        Comp notequal
    

问题似乎在于球体没有通过深度测试，这是有道理的，因为它是渲染队列中的第一个（“Queue”=“Geometry-1”）。关于我可以尝试什么来完成这项工作的任何想法？

【参考方案1】：

本质上，您需要从立方体中使用 Z 测试切割球体，并且您需要从球体中使用模板测试切割立方体。这个鸡蛋问题可能可以通过你的立方体中的另一个“通行证”来解决。使其首先在队列“Geometry-2”中使用 ColorMask 0 写入。然后，像往常一样渲染你的球体。并将当前的多维数据集传递更改为 ZTest with Equal。