打工做TFT的日子01

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篇首语:本文由小常识网(cha138.com)小编为大家整理,主要介绍了打工做TFT的日子01相关的知识,希望对你有一定的参考价值。

TFT----Thin Film Transistor,薄膜晶体管。是日常显示屏背后的“开关”。实验室做OLED的,目前在学TFT流片。

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以J.Jang的dual gate TFT为例

双栅极(DG)a-IGZO薄膜晶体管(TFT):

在玻璃上沉积60nm钼(Mo)层并通过湿法蚀刻作为底栅。然后通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)在350℃下沉积100nm SiNX和150nm SiO2,用于底部栅极绝缘层。随后20nm的a-IGZO层,湿法刻蚀,然后沉积150nm的Mo层作为源/漏电极。使用基于过氧化氢(H2O2)的蚀刻剂以减少在源极/漏极湿法蚀刻期间对a-IGZO层的背沟道的损坏。通过PECVD在200℃下沉积400nm SiO2层作为顶栅绝缘层,同时作为a-IGZO有源层的钝化层。通过溅射沉积150nm Mo层并刻蚀形成顶栅。最后沉积600nm的SiO2层作为DG a-IGZO TFT的钝化层。

#J.Jang是大牛,文献贼多。

#性能有点像双栅场效应管,可以控制放大倍数,更为灵活。

#一般情况下GI(Gate Insulator)层要用到离子刻蚀(干刻),通入CF4气体并电离,跟SiO2反应成SiF4气体与碳氧化物。

#a-IGZO很敏感,容易受到顶GI工艺影响,在界面处积累OH-离子,会使得阈值电压漂移。

#现在器件理论早就成熟,但是工艺略有欠缺。

#做工艺的很不容易的,真的。

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