TMP的阴影性能如何

Posted 2023-05-17 UWATech

1）TMP的阴影性能如何
​2）CommandBuffer.DrawMeshInstanced无法画阴影问题
3）Unity编辑器在Require大量加载Lua文件时，经常报出not enough memory
4）场景制作的时候，2D资源受后处理调色影响比较大

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这是第335篇UWA技术知识分享的推送，精选了UWA社区的热门话题，涵盖了UWA问答、社区帖子等技术知识点，助力大家更全面地掌握和学习。

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TextMeshPro

Q：请问TMP的阴影性能如何？TMP的描边没办法改成外描边吗？看起来Outline是内外都扩的，如果想要改成外扩只能改源码吗？

A1：UGUI的Outline会让对象多渲染n次，TMP的Outline并不会让对象的渲染次数增加，性能更好。

在这个Shader中把“+outline”删除，Outline就会只往外扩散了。

 

感谢Xuan@UWA问答社区提供了回答

A2：TMP的阴影性能非常不错，因为它使用的是基于距离场的渲染技术，这种技术可以在保持高质量的情况下减少渲染时间。这意味着，即使在文本中使用多个阴影效果，也可以获得良好的性能表现。

至于TMP的描边效果，它是支持外描边的。默认情况下，TMP的描边是内外都扩的，但是你可以通过更改材质属性来将其改为外描边。

具体来说，你可以在使用TMP组件的对象上找到对应的材质，然后将材质的Outline Width属性设置为负数，这样就可以将描边扩展到文本的外部。

需要注意的是，TMP的材质是使用ShaderLab语言编写的，如果需要修改其内部逻辑，可能需要一定的编程知识。但是，对于简单的修改，例如更改描边效果，你可以尝试使用Shader Graph工具来简化修改过程。

感谢NG週@UWA问答社区提供了回答

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Rendering

Q：想用CommandBuffer.DrawMeshInstanced画阴影，使用的是URP的Lit Shader，ForwardLit 是可以的，且可以AfterRenderingOpaques。但是阴影是画不出来，请问有什么解决方法吗？以下是代码（代码不是原创）：
https://forum.unity.com/threads/commandbuffer-drawmeshinstanced-shadowcasting.1343306/

部分代码截图：

 

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Rendering

Q：场景制作的时候，要不要开着后处理，遇到的问题是2D资源受后处理调色影响比较大？

我们的情况比较复杂：
1. 从性能角度考虑，低配机型是不开后处理的
2. 2D角色、2D建筑、3D场景混合渲染
3. 有半解锁的战争迷雾效果

在这些需求下，场景制作跟后处理要怎么协同呢？

思考了几个方案都不太行：
1. 在UI相机画2D，但无法完美处理深度问题，因为场景的RT是缩放过的，但UI采用全分辨率
2. 2D片写入Stencil，有一些半透的云可能遮住2D片，写入Stencil处理的话可能会有明显的边界问题，且UberPost最后是全屏的，由于场景RT跟界面RT尺寸不同，Stencil也不对应
3. 将后处理的调色放到Opaque之后进行，但这样其他的半透则无法参与调色，且这种方案带来更多的RT切换，在移动端并不明智

现在想着是在不开后期的情况下设计场景，然后后期调色只是进行微调，尽量不影响2D，如果效果甚微的话，就不开启后期调色了，不知这样处理如何？主要是2D与3D混合的场景，不是说UI，UI相机本身是不开后期的，不知大家有什么方案？

针对以上问题，有经验的朋友欢迎转至社区交流分享：
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Lua

Q：在Unity 2018编辑器上跑时，启动Require大量加载Lua文件时，经常报出not enough memory，很频繁但非必现，在Windows/Android/iOS上都不会，用的是toLua。

A：可以在编辑器里面用System.IO.File的接口读Lua，避开TextAsset在编辑器不能卸载的问题。或者尝试升级Lua版本。

感谢欧月松@UWA问答社区提供了回答

封面图来源于网络

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提高点光源的阴影贴图性能？

【中文标题】提高点光源的阴影贴图性能？

【英文标题】：Improving shadow map performance of point lights?

【发布时间】：2013-06-02 07:11:44

【问题描述】：

我正在使用阴影贴图制作点光源，目前我使用六个深度贴图纹理完成了它，每个纹理都单独渲染并应用于光照贴图。这工作得很好，但性能成本很高。

现在，为了通过减少深度贴图着色器和光照贴图着色器之间的 FBO 更改和着色器交换来提高性能，我正在考虑几种方法。第一个涉及拥有一个比阴影贴图大六倍的纹理，并“一次”渲染所有点光深度图，然后使用此纹理在一次调用中布置光照贴图。是否可以只渲染部分纹理？

为了详细说明第一个示例，它会是这样的：

1. Set shadow map size to 128x128
2. Create a depth map texture of 384x256 (3 x 2 shadow map)
3. Render the first 'side' of a point light to the rectangle (0, 0, 128, 128)
4. Render the second 'side' to the rectangle (128, 0, 128, 128)
5. - 9. Render the other 'sides' in a similar manner
10. Swap to light map mode
11. Render the light map in a single call using the 'cube-map'-ish depth texture

我认为的第二种方法是使用 3D 纹理而不是部分渲染，但我仍然有一个类似的问题：我可以只渲染 3D 纹理的某个“层”而保留其他层吗？

【问题讨论】：

实际使用几何着色器进行分层渲染怎么样？ opengl.org/wiki/Geometry_Shader#Layered_rendering

@Grimmy 这可能行得通，但出于兼容性目的，我尽量不使用 GS。

我不知道你对阴影贴图了解多少，阴影应该有什么质量。所以我想提一些技术，如 Cascaded Shadow Maps、Variance Shadow Maps 和 Perspective Shadow Maps，您可能应该在尝试之前考虑这些技术进行优化。因为根据您使用的技术，您可以用来优化的技术有限。

您可以同时支持（GS 和非 GS）版本。说到性能，很难说你会从中获得什么。过去我做了太多“明显的优化”，导致完全没有收获。也许你是对的，有一种更快的方法..谁知道.. :)

【参考方案1】：

为什么组合阴影贴图会有优势？

你必须渲染场景六次。

您可以渲染 6 次 128x128 FBO，然后创建 256x384 纹理并用之前渲染的纹理填充它。但是每个像素的带宽和采样率保持不变。

在保留其他部分的同时渲染一个部分可能会使用模板缓冲区完成，但在这种情况下，我看不到创建组合阴影贴图的任何意义。

希望这会有所帮助。任何反馈将不胜感激。