日本佳能推出5纳米光刻机,国产光刻机却爆雷:弯道超车失败了?

Posted 凯特琳

tags:

篇首语:本文由小常识网(cha138.com)小编为大家整理,主要介绍了日本佳能推出5纳米光刻机,国产光刻机却爆雷:弯道超车失败了?相关的知识,希望对你有一定的参考价值。

《日本佳能推出5纳米光刻机,国产光刻机却爆雷:弯道超车失败了?》          https://mbd.baidu.com/newspage/data/videolanding?nid=sv_11518828072802699512&sourceFrom=share                

 

以上是关于日本佳能推出5纳米光刻机,国产光刻机却爆雷:弯道超车失败了?的主要内容,如果未能解决你的问题,请参考以下文章

[转帖]佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年:半导体器件这样炼成

ASML后悔莫及,中国芯片选用国产和日本光刻机,它并非不可替代

中国公布多项技术,光刻机和7纳米工艺都得到解决,外媒:挡不住了

ASML最后的倔强,不愿失去中国市场,继续供应28纳米光刻机

在日本之后,中国也发布新型光刻机,ASML加快对中国出口光刻机

海外研发2nm,中国推进石墨烯芯片实现弯道超车,将再无需光刻机