ASML再遭重击，10nm先进工艺无需光刻机，为中国芯片指明新方向

Posted 2022-08-29 柏颖漫谈

近日日本方面报道指东京理科大学已将NIL工艺已突破到10nm以下，这是全球首款无需光刻机的芯片制造工艺，代表着先进工艺的另一条路线，对于以光刻机为主业的ASML来说无疑是重大的打击。

如今ASML在光刻机市场一家独大，占有光刻机市场超过六成的市场份额，还研发了全球最先进的EUV光刻机，而且用于2nm及更先进工艺的第二代EUV光刻机也即将研发成功，这一切都让ASML志得意满。

然而10多年前的ASML曾相当落魄，当时它的在光刻机市场只有可怜的市场份额，甚至连生存都成为问题，后来不得不托庇在飞利浦之下，而飞利浦对它也不看重，仅是在办公楼旁边划了一块地搭个相当于棚子的地方给ASML办公就了事，可见当时ASML混得多么凄惨。

不过就在ASML相当落魄的时候，台积电的技术高管林本坚研发出了浸润式光刻机技术，ASML对此相当看重，于是两方一拍即合，共同研发浸润式光刻机，随后浸润式光刻机大行其道，而ASML也一举翻身，到2008年的时候ASML已成为光刻机的老大。

后来ASML想出了与客户捆绑的方式，让三星、Intel和台积电等芯片制造企业入股，共同研发先进光刻机，由此ASML逐渐奠定了光刻机市场老大的地位，并称霸至今，让业界忽视了光刻机行业的其他企业。

其实在ASML成为光刻机行业老大之前，光刻机的两强是日本的尼康和佳能，日本两大光刻机企业曾垄断光刻机市场多年，它们主推的是干式光刻机，依靠干式光刻机，尼康和佳能曾赚得盆满钵满，至于它们后来被ASML取代则是老土的商场故事。

由于尼康和佳能在干式光刻机上赚取了丰厚的利润，它们当然希望继续延续干式光刻机，当台积电的林本坚发明了浸润式光刻机的时候，尼康和佳能不为了维持自己的市场地位，想方设法压制浸润式光刻机技术的发展，于是林本坚才找来当时相当落魄的ASML，成就了ASML后来的王者地位。

尼康和佳能虽然被ASML取代，但是它们在光刻机市场依然拥有一定的技术优势，由此它们也在光刻机市场继续生存了下来，如今尼康和佳能分别占有光刻机市场一成到两成的市场份额。日前有消息指尼康计划加大光刻机的技术研发，希望借助当前ASML无法自由出货之机进军中国市场，依托于中国这个全球最大的光刻机市场重振雄风。

日本企业在光刻机市场衰落后，除了继续维持着光刻机产业之外，他们还尝试研发了无需光刻机的NIL技术，早是数年前NIL技术就已研发成功，并被日本的铠侠采用，目前已将NIL工艺用于生产15nm工艺的存储芯片，日本方面认为NIL工艺至少可以推进至5nm工艺，目前突破10nm工艺就是NIL工艺的进一步升级。

日本在光刻机技术和NIL工艺技术方面的进展，对于中国芯片行业来说无疑是巨大的鼓舞，这将为中国的芯片制造提供新的选择，同时也为中国芯片行业研发无需光刻机的制造工艺指明了方向。

一旦中国可以采购日本的光刻机，那么ASML在光刻机行业的垄断优势将被打破，毕竟如今佳能、尼康等的光刻机用于生产7nm及更落后的成熟工艺应该是没问题的，而NIL工艺对于ASML的光刻机事业来说更是毁灭性打击，一旦先进工艺无需光刻机生产芯片，那么ASML也就到了被终结的时候，或许此时的ASML已经瑟瑟发抖了吧？