集成电路模拟版图入门-版图基础学习笔记

Posted 2022-04-14 IC观察者

第三部分：版图的准备
2. 设计规则
3) Design Rule

2. 设计规则
4) 规则定义
4.1 NW（N WELL）

2. 设计规则
4) 规则定义
4.1 NW（N WELL）

2. 设计规则
4) 规则定义
4.2 PO(Poly)

2. 设计规则
4) 规则定义
4.3 M1(Metal1)

2. 设计规则
4) 规则定义
4.4 VIA

3. DRC文件
3.1 DRC:Design Rule Check，设计规则检查。
3.2 DRC程序了解有关你工艺的所有必需的东西。它将着手仔细检查你所有布置的一切。

3. DRC文件
3.3 举例说明 nwell的 DRC文件

4. LVS文件
4.1 LVS: layout versus schematic，版图与电路图对照。
4.2 LVS工具不仅能检查器件和布线，而且还能确认器件的值和类型是否正确。

4. LVS文件
4.3 Environment setting：

1. 将决定你用几层的金属，选择一些你所需要的验证检查。
2. 选择用命令界面运行LVS，定义查看LVS报告文件及LVS报错个数。
   

4. LVS文件
   4.4 layer mapping:
   1. 右图描述了文件的层次定义、层次描述及gds代码；
      2) Map文件是工艺转换之间的一个桥梁
      
5. LVS文件
   4.5 Logic operation:
   定义了文件层次的 逻辑运算。
   
6. LVS文件
   4.6 DefinedDevices:
   右图定义器件端口及器件逻辑运算。
   
7. LVS文件
   4.7 Check tolerance:
   右图定义检查器件属性的误差率，一般调为1%。
   
8. LVS文件
   4.8 LVS电路与版图对比
   
9. LVS文件
   4.9 LVS网表对比
   
   要了解更多关于版图的知识，可以关注“IC修正院”官网
   下期给大家分享更多内容。