中芯国际据理力争赢了美国诉讼,证明独立自主才能有更长远的发展

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2019年中芯国际从美国退市,后来美国股民依据1934年的条款起诉中芯国际要求赔偿损失,经过一年多时间最终由中芯国际赢了诉讼避免赔偿,这说明了中国企业只要敢于在美国抗争还是有机会赢得诉讼的,中芯国际敢于如此做,在于此前华为的硬气起到的示范作用。

这么多年以来,中国企业在美国面临的诉讼太多,大多数都以中国公司赔钱了事,不过其中有一家企业却从未妥协,那就是华为。

2000年后不久,美国思科就以华为侵权为由在美国起诉华为,华为强硬应诉,最终以思科撤诉和解了结;后来华为在欧美还面临诸多专利诉讼,华为都没有妥协,反而在诸多压力之下越战越强,后来华为在欧洲通信设备市场更占有优势市场份额,击败欧洲本土的诺西、爱立信、阿尔卡特等。

华为在欧美市场的做法为中国企业做了示范,从那之后,不少中国企业就不再选择妥协,而是采取更强硬的态度应对相关的诉讼,为中国企业走向海外市场打下了基础,到如今已有许多中国品牌在欧美市场站稳脚跟。

中国企业有如此底气,在于如今的中国企业已不再是当年只能赚些血汗钱的企业,它们已有足够的核心技术优势,中国已连续11年位居全球专利申请量第一名,华为等企业的专利申请量更多年居于全球第一,中国企业实力的增强为它们提供了足够的底气。

回到中芯国际,中芯国际这几年也是不断加强技术研发,它已成功投产14nm工艺,已与芯片代工行业第二阵营的联电、格芯等居于同一水平,如今它正努力推进N+1、N+2工艺,将达到接近7nm工艺的水平。

中芯国际未能顺利推进到7nm工艺,主要原因在于美国的做法导致中芯国际在4年前下单购买的EUV光刻机至今都未能拿到,但是中芯国际并未气馁,一直都在储备先进技术,为7nm工艺做准备,研发N+1、N+2工艺就是基于现有的设备,这推动它在芯片代工第二阵营取得了领先优势。

除了中芯国际自身的努力之外,国产芯片制造产业链也在加速完善,目前芯片制造的八大环节除了光刻机之外都已达到14nm水平,其中刻蚀机更已达到5nm水平并获得了台积电的认可,一旦光刻机取得突破,完全自主的国产先进工艺将彻底摆脱对海外技术的依赖。

业界人士认为中国当前量产的14nm工艺已能满足国内七成的芯片需求,一旦突破到7nm工艺将能满足九成的需求,国产芯片产业链自主研发能力的增强,也是中芯国际敢于在美国应诉的原因。

中芯国际在美国的诉讼赢得了胜利,将鼓励更多中国企业挺直腰杆,依法维护自己的权益,这将鼓舞更多中国企业走向国际市场,可以说中芯国际、华为等企业在海外的诉讼取得胜利具有非常积极的意义。

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